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技術參數(shù) |
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| 設備型號 | ZCJ-300（600、1200） |
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| 極限真空 | 8×10-5Pa |
| 腔室功能分類 | 進、出樣室（1000Pa） |
| 過渡室（0.5Pa） |
| 緩沖室（壓力及氣氛匹配濺射室） |
| 濺射室（0.5Pa） |
| 濺射靶類型 | 矩形平面靶、圓柱旋轉靶 |
技術參數(shù) |
|---|
| 樣品幅寬 | 300、600、1200mm |
|---|
| 常用靶材 | ITO、NiO2、Cu |
| 靶基距 | 80~120mm |
| 鍍膜節(jié)拍 | ≥60s |
| 連續(xù)運行時間 | ≥200h |
| 片內膜厚均勻性 | ≤±3% |
| 片間膜厚均勻性 | ≤±3% |
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